30 納米 jue對(duì)精度,1nm重復(fù)精度 

0.6 米直徑工件, 僅需 1 秒測(cè)量

表面形貌 3D 成像

全新的觸摸屏操作模式,Victsin 測(cè)量軟件,現(xiàn)已支持Windows11

自動(dòng)調(diào)平選件,讓全自動(dòng)測(cè)量成為現(xiàn)實(shí)

成盤測(cè)量選件 實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程控制

一臺(tái)機(jī)器可測(cè)量多種工件 通過(guò)更換不同的鏡頭 平面、凹面、凸面…

能夠測(cè)量的工件 

直徑 < 600 mm

粗糙度 < Ra 0.1μm 平面或球面工件

超快速、超高精度的表面形貌三維成像

'

通過(guò)光路擴(kuò)展,  測(cè)量粗糙度> Ra 0.3 μm 的平面工件

通過(guò)CGH補(bǔ)償器, 測(cè)量復(fù)雜曲面

黑色或透明工件, 仍然能夠測(cè)量

適合半導(dǎo)體應(yīng)用的MST(多表面測(cè)量) 一次采集, 同時(shí)完成上表面、下表面、厚度的計(jì)量。

適合半導(dǎo)體應(yīng)用的jue對(duì)測(cè)距干涉，量程 > 100 μm 可進(jìn)行臺(tái)階、翹曲度、熱變形的測(cè)量。

出色的動(dòng)態(tài)范圍， 超過(guò)100條干涉條紋, 仍然可以分析。

將 FEA（有限元分析）引入干涉儀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

根據(jù)文獻(xiàn), 干涉計(jì)算對(duì) 0~120 Hz 的振動(dòng)敏感。 因此, 我們將機(jī)械結(jié)構(gòu)的 7 階模態(tài)設(shè)計(jì)到 127 Hz， 大大降低了機(jī)械結(jié)構(gòu)對(duì)振動(dòng)的敏感性

超高重復(fù)精度

對(duì)一片 250mm 直徑的平晶進(jìn)行 1000 次連續(xù)測(cè)量。

PV 值的重復(fù)精度為 5.7 納米 (1/111 λ） 

RMS 值的重復(fù)精度為 0.38 納米 (1/1666 λ）

VICT Dop模式,數(shù)據(jù)未經(jīng)人為修改

三維成像原理

面型干涉是目前最主流的光學(xué)表面計(jì)量手段， Fiz3D 使用 Fizeau(斐索)干涉光路

VICT 技術(shù)原理

選件

VICT High 超高精度 測(cè)量模式

支持到0.1納米 ( 1/6330 λ）RMS重復(fù)精度 和1納米（1/633 λ）PV重復(fù)精度， 對(duì)環(huán)境擾動(dòng)進(jìn)行建模分析, 包括振動(dòng)、氣流、光場(chǎng)在內(nèi)的負(fù)面影響排除。

沒(méi)有使用多次測(cè)量取平均的方法, 不會(huì)導(dǎo)致被測(cè)物面型被“美化" 。

VICT Dop 多普勒抗振動(dòng)測(cè)量模式

非常惡劣的工業(yè)環(huán)境下仍正常工作，所有模式中zui高的測(cè)量效率， 允許不使用隔振平臺(tái)。

蒙版跟蹤

超分辨三維圖

清潔度分析

基礎(chǔ)配置

測(cè)量精度

PV值是 Peak to Valley （峰值與谷值的差值 ）

RMS值是 Root Mean Square （ 均方根值 ），根據(jù)經(jīng)驗(yàn)RMS值是PV值的1/3左右。因?yàn)橄衿矫孢@類的簡(jiǎn)單形狀，大多使用PV值來(lái)表示。

例如：面型精度的PV值是1/4λ時(shí)，表示理想平面的Max. 偏差值是158.2nm

重復(fù)精度定義

連續(xù)100次測(cè)量的允差 (95%置信度)

測(cè)試環(huán)境

樣品放置于氣浮隔振桌.上,樣品距離參考鏡100mm,光路被遮光罩包裹,房間內(nèi)空調(diào)關(guān)閉，以避免氣流擾動(dòng)。

被測(cè)物

直徑小于參考鏡的80%,平面反射工件,反射率4%+1%,PV精度高于50 nm, RMS精度高于5 nm。

可靠性與環(huán)境要求